Entropía Permiso de autoshado
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Entropía Permiso de autoshado

 

Descripción

El producto de EntoPyMakeup, que se muestra en el concepto W, ofrece una solución de belleza innovadora diseñada para mejorar sus características naturales con precisión y facilidad. Este elemento cosmético único está formulado para satisfacer las demandas de los entusiastas contemporáneos de la belleza, proporcionando una combinación de eficacia, lujo y accesibilidad. Enfatiza la facilidad de uso, los ingredientes avanzados y los resultados efectivos, lo que lo hace adecuado para cualquier persona que busque mejorar su rutina cosmética con productos de grado profesional de Corea del Sur. Este producto se alinea con las últimas tendencias en belleza y cuidado personal, asegurando que los usuarios logren su estética deseada con un esfuerzo mínimo.

Cómo usar

1. Asegúrese de que la primera solución se aplique de manera uniforme.
2. Después de esperar 8 minutos, limpie la primera solución.
3. Aplique la segunda solución y también déjela durante 8 minutos.
4. Lave la segunda solución para terminar el proceso.

Ingredientes

Primero Water, Steartrimonium Chloride, Cetearyl Alcohol, Mineral Oil, Hydroxyethylcellulose, Glycerin, Hydrolyzed Collagen, Hydrolyzed Keratin, Hydrolyzed Silk, Hydrolyzed Wheat Protein, Hydrolyzed Corn Protein, Hydrolyzed Soy Protein, Aloe Barbadensis Leaf Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Panthenol, Hydroxyacetophenona, Caprylyl Glicol, Disodium EDTA, ácido cítrico, fragancia.

Segundo Water, Cetearyl Alcohol, Cetrimonium Chloride, Steartrimonium Chloride, Cyclopentasiloxane, Dimethicone, Simmondsia Chinensis (Jojoba) Seed Oil, Argania Spinosa Kernel Oil, Olea Europaea (Olive) Fruit Oil, Butyrospermum Parkii (Shea) Butter, Tocopherol, Methylparaben, Propylparaben, Fenoxietanol, fragancia.

Especificaciones

  • Marca: EntropyMakeup
  • Volumen o peso de contenido: 1er agente 0.102 fl.oz/3.5g, 2do agente 0.102 fl.oz/3.5g
  • Área objetivo: pestañas
  • Tipo de piel: todo tipo de piel
  • País de origen: Corea del Sur

 

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